会社沿革

会社沿革

1978年 9月 設立
1986年 ハードディスク関連装置事業への参入
1989年 ハードディスク研削/研磨/洗浄/乾燥自動化ライン 1号機リリース
1990年 ハードディスクサブストレート自動外観検査装置 (CCD方式)リリース
1992年 ハードディスク一貫生産ライン1号機リリース
(メッキラッキング・アンラッキング装置開発)
1993年 ハードディスク用旋盤1号機リリース
1994年 レーザー方式ディスク表面検査装置1号機リリース SSIシリーズ
1995年 スーパーポリッシュ一貫ライン開発完了液晶関連装置事業参入
液晶カセット洗浄機リリース
1996年 ディスク板厚選別装置1号機リリース
1997年 System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. 設立
ディスク平坦度検査装置1号機リリース:SFIシリーズ
ディスク表面欠陥解析装置1号機リリース:SDAシリーズ(検出感度5μm)
1998年 スーパーグラインダー、ウルトラポリッシャーリリース
ディスク表面検査ヘッドV8.0(検出感度1μm)リリース
1999年 System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. Kulim地区(現事務所)へ移転
ガラス用ハードディスク精密研磨自動化ラインリリース(4way方式):13B-10P
精密洗浄機リリース
ディスク表面検査ヘッドV8.0A(検出感度300nm) リリース
2000年 ガラス用ハードディスクチャンファー研削・研磨装置リリース
2001年 半導体ウェーハ用洗浄機リリース
化合物・酸化物ウェーハ用薄物両面研磨機リリース:PH1500/1800シリーズ
ガラスディスク表面検査ヘッド Ver.9.0リリース(検出感度1μm)リリース
2005年 ディスク表面検査装置SSI-641リリース
信号処理システムリリース(Windows対応)
2010年 ディスク表面検査装置SSI-642リリース
2011年 信号処理システムリリース(デジタル信号化処理対応)
ディスク表面検査ヘッド V820(検出感度80nm)リリース
2013年 角型基板対応異物検査・解析装置 RSIシリーズ リリース
2014年 ケメット・ジャパン株式会社に株式を譲渡
ケメット・ジャパングループの一員となる
2017年 大型基盤用平面検査装置LSIシリーズリリース
検査光学ヘッド Ver.1000(検出感度50nm)実験機リリース
シックネスソーター装置リリース
2018年 創業40周年を迎える
光走査装置、光走査方法および表面検査装置(特許化)
ウェハーワックス貼付装置リリース
低加圧機能付片面研磨装置リリース
2019年 ケメット・ジャパン株式会社 MAT事業部より、装置の制作・メンテナンスを委託される
洗浄機能付全自動CMP装置リリース
2020年 ウェハー洗浄機リリース
2023年 株式会社北川鉄工所に株式譲渡
キタガワグループの一員となる