会社沿革
会社沿革
1978年 9月 | 設立 |
---|---|
1986年 | ハードディスク関連装置事業への参入 |
1989年 | ハードディスク研削/研磨/洗浄/乾燥自動化ライン 1号機リリース |
1990年 | ハードディスクサブストレート自動外観検査装置 (CCD方式)リリース |
1992年 |
ハードディスク一貫生産ライン1号機リリース (メッキラッキング・アンラッキング装置開発) |
1993年 | ハードディスク用旋盤1号機リリース |
1994年 | レーザー方式ディスク表面検査装置1号機リリース SSIシリーズ |
1995年 |
スーパーポリッシュ一貫ライン開発完了液晶関連装置事業参入 液晶カセット洗浄機リリース |
1996年 | ディスク板厚選別装置1号機リリース |
1997年 |
System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. 設立 ディスク平坦度検査装置1号機リリース:SFIシリーズ ディスク表面欠陥解析装置1号機リリース:SDAシリーズ(検出感度5μm) |
1998年 |
スーパーグラインダー、ウルトラポリッシャーリリース ディスク表面検査ヘッドV8.0(検出感度1μm)リリース |
1999年 |
System Seiko(Malaysia)Sdn.Bhd. Kulim地区(現事務所)へ移転 ガラス用ハードディスク精密研磨自動化ラインリリース(4way方式):13B-10P 精密洗浄機リリース ディスク表面検査ヘッドV8.0A(検出感度300nm) リリース |
2000年 | ガラス用ハードディスクチャンファー研削・研磨装置リリース |
2001年 |
半導体ウェーハ用洗浄機リリース 化合物・酸化物ウェーハ用薄物両面研磨機リリース:PH1500/1800シリーズ ガラスディスク表面検査ヘッド Ver.9.0リリース(検出感度1μm)リリース |
2005年 |
ディスク表面検査装置SSI-641リリース 信号処理システムリリース(Windows対応) |
2010年 | ディスク表面検査装置SSI-642リリース |
2011年 |
信号処理システムリリース(デジタル信号化処理対応) ディスク表面検査ヘッド V820(検出感度80nm)リリース |
2013年 | 角型基板対応異物検査・解析装置 RSIシリーズ リリース |
2014年 |
ケメット・ジャパン株式会社に株式を譲渡 ケメット・ジャパングループの一員となる |
2017年 |
大型基盤用平面検査装置LSIシリーズリリース 検査光学ヘッド Ver.1000(検出感度50nm)実験機リリース シックネスソーター装置リリース |
2018年 |
創業40周年を迎える 光走査装置、光走査方法および表面検査装置(特許化) ウェハーワックス貼付装置リリース 低加圧機能付片面研磨装置リリース |
2019年 |
ケメット・ジャパン株式会社 MAT事業部より、装置の制作・メンテナンスを委託される 洗浄機能付全自動CMP装置リリース |
2020年 | ウェハー洗浄機リリース |
2023年 | 株式会社北川鉄工所に株式譲渡 キタガワグループの一員となる |